槽式碱抛光清洗设备

设备名称：槽式碱抛光清洗设备

设备用途：用于扩散后的硅片抛光刻蚀、清洗

工艺流程：预清洗→抛光→后清洗(或O3清洗)→酸洗→预脱水→烘干

设备产能：4篮/批，9600片/小时@100片/篮; 12000片/小时@120片/篮

碎片率：≤0.01%

Uptime：≥98.5%

设备特点：

1.工艺槽循环大流量设计，流量连续变频可调；

2.实时温控系统，工艺槽可实现±0.5℃的控温精度；

3.支持在线换液，具备一键排、洗、配液功能；

4.化学品添加高精度传感器控制，添加量精度±1%

5.高效洁净烘干系统，烘干时间≤660S